テクニカルレポート

総合研究所設立15周年を迎えて

その他

総合研究所 副所長 大野 晃宜 OHNO Akinobu
 
当社総合研究所は、2022年4月に無事設立15周年を迎えることができました。ひとえに、日頃よりご支援いただいているステークホルダーの皆さまのおかげです。
当社は1978年に「中央研究所」を神奈川県藤沢市に開設しました。その後2007年に同県川崎市に移転し、その際に名称を「総合研究所」と改めました。川崎市というと湾岸工業地域のイメージが強いかと思われますが、当研究所は内陸の多摩市に近い場所にあり、最寄り駅は小田急線の黒川駅となります。周辺は学び舎が多い穏やかな環境で、市街も学生などで活気にあふれています。ここ数年間は新型コロナウイルス感染症の影響により、外を出歩く人も少なくなっていましたが、最近ではかつての賑わいを取り戻しているように感じます。
当研究所は、建物の延床面積は約6,000㎡であり、二階建ての事務棟と四階建ての研究棟から構成されております。十分な耐震構造を有しており、東日本大震災の際も大きな被害はありませんでした。
研究所での業務は、新製品の研究開発と、お客さまへの技術サービスのための分析、評価試験などが主な内容となります。自動車部品や水洗金具向けの装飾・機能分野と、半導体・プリント基板向けの電子関連分野に加えて、近年では分野を問わず将来を見据えた新規研究開発も行っております。研究開発型企業として研究所内には国内人員数の約4割もの社員が在籍しており、日々業務に邁進しております。
設立から15年間での大きな変化としては、以前の研究開発と技術サービスは国内のお客さま向けが中心でしたが、現在では海外のニーズも強く意識するようになったことが挙げられます。昨今の世界情勢から、今後はさらに市況が目まぐるしく変化することが予想されます。お客さまの要求に迅速に応えるため、スピーディーな研究開発体制や、グローバルで質の高い技術サービスを提供できる体制の強化が重要と考えております。そのために当研究所は、「より迅速な情報収集」「DX化による研究開発や技術サービスの効率化」「グローバル人材の育成」を検討しています。詳細な内容については開示できる段階で順次お伝えしま
すが、ますます発展するこれからのJCUにご期待ください。
また、当社は中期経営計画の基本方針の一つに「ESGでの経営基盤構築」を掲げており、研究開発の方向性としてもSDGsへの貢献は欠かせません。具体的なテーマは「カーボンニュートラル」と、「半導体」です。前者では、お客さまが掲げている環境目標に対して、当社プロセスを採用いただくことで達成に貢献できる製品の開発を進めております。後者では、電子機器の高機能化・IoT化が進むにつれ要求がますます厳しくなる電気信号の高速化、データの大容量化への対応のため、当社が得意としているビアフィリング用硫酸銅めっきプロセスおよび回路形成用エッチングプロセスを中心に市場のニーズに応え、社会貢献の一助となるべく、努力を続ける所存であります。
技術サービスでは、お客さまから依頼された試験や評価内容について、短納期かつ高精度化を目指し、より信頼される企業であるよう努めてまいります。
「表面処理技術から未来を創造する」という当社の企業理念に基づき、表面処理技術の総合メーカーとして、これからの社会をリードする製品・技術を引き続き研究開発してまいります。お近くにお越しの際は、ぜひ当社総合研究所までお立ち寄りいただけますと幸いです。これからもよろしくお願い申し上げます。

総合研究所の外観