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JPCA Show 2026へ出展のご案内

展示会

電子機器トータルソリューション展

会期

2026年6月10日(水)~6月12日(金)

会場

東京ビッグサイト東2ホール

ブース番号

2C-49

展示内容

  1.  RDL用硫酸銅めっきプロセス 『TIPHARES RDP』
  2.  Cuピラー用高速硫酸銅めっきプロセス 『TIPHARES BUP』
  3.  SAP用Tiシード層エッチングプロセス
  4.  TSV用硫酸銅めっきプロセス 『TIPHARES TVP』
  5.  結晶粒径の制御によるCu-Cu直接接合技術
  6.  TGVフィリングめっきプロセス『TIPHARES GVP』
  7.  MSAP用高面均性スルーホールフィリングめっきプロセス 『CU-BRITE TF8』
  8.  MSAP用Cuシード層エッチングプロセス 『FE-880』
  9.  高面均性ビアフィリングめっきプロセス『CU-BRITE VF8』
  10.  SAP用回路形成エッチングプロセス 『NEZARK SAC6,7,9』
  11.  プラズマ処理装置 『TAIKAI』
  12.  低アスペクトスルーホールフィリングめっきプロセス 『CU-BRITE VLX』
  13.  高電流密度対応ビアフィリングめっきプロセス 『CU-BRITE VF882』
  14.  ハイスローイングパワーめっきプロセス 『CU-BRITE 51』
  15.  熊本事業所のご紹介

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本件の問い合わせ先

株式会社 JCU 経営戦略室 経営企画部
TEL:03-6895-7004  E-mail:kikaku@jcu-i.com