株式会社JCU

JCUテクニカルレポート バックナンバー一覧

PFOS規制対応型ミスト防止剤 MISTSHUT NP

総合研究所
新製品新市場開発部
谷口 大祐 Daisuke TANIGUCHI / 根道 靖丈 Yasutake NEMICHIA

 

解析センター2課
安田 弘樹 Hiroki YASUDA

はじめに

2009年5月に開催されたストックホルム条約の第4回締結国会議にてPFOS(パーフルオロオクタンスルホン酸及びその塩)が残留性有機汚染物質として規制対象となったことを受けPFOSを含有していたミスト防止剤のミストシャットCRLを生産中止とし、PFOSを使用していないミスト防止剤を開発した。
今回開発した「MISTSHUT NP」の発泡性、補給量、ハルセル外観への影響を評価したので報告する。

実験方法

従来のPFOSを使用した製品と他社製品を比較対象としたMISTSHUT NPの評価方法を下記に示す。
①自然放置後の発泡性試験: 5A-40℃-2min
②連続電解試験:20A/dm2-40℃(補給量の比較及び連続 電解36h後のハルセル試験)

従来のPFOSを使用した製品と他社製品を比較対象としたMISTSHUT NPの評価方法を下記に示す。
①自然放置後の発泡性試験: 5A-40℃-2min
②連続電解試験:20A/dm2-40℃(補給量の比較及び連続 電解36h後のハルセル試験)

実験結果

①自然放置後の発泡性試験
図1にハルセルを用いた自然放置後の発泡性を確認した写真を示す。自然放置による発泡持続時間は5h程度であり、PFOS使用製品と同等の発泡性を示した。

図1 自然放置後の発泡性確認試験

②連続電解試験(補給量の比較及び連続電解36h後のハルセル試験)
図2に36hまでの補給割合を示す。比較に用いた他社製品よりも補給割合が大幅に少なくなる結果が得られた。

図2 各初期添加量を100%とした場合の補給割合

図3に電解後のハルセル外観と硫酸濃度と3価クロム濃度を示す。3価クロムの生成量は比較液と同等以下の値を示した。また、硫酸濃度とハルセル外観にも有意差は見られなかった。

図3 電解後のハルセル概観と硫酸濃度と3価クロム濃度

①自然放置後の発泡性試験
図1にハルセルを用いた自然放置後の発泡性を確認した写真を示す。自然放置による発泡持続時間は5h程度であり、PFOS使用製品と同等の発泡性を示した。

図1 自然放置後の発泡性確認試験

②連続電解試験(補給量の比較及び連続電解36h後のハルセル試験)
図2に36hまでの補給割合を示す。比較に用いた他社製品よりも補給割合が大幅に少なくなる結果が得られた。

図2 各初期添加量を100%とした場合の補給割合

図3に電解後のハルセル外観と硫酸濃度と3価クロム濃度を示す。3価クロムの生成量は比較液と同等以下の値を示した。また、硫酸濃度とハルセル外観にも有意差は見られなかった。

図3 電解後のハルセル概観と硫酸濃度と3価クロム濃度

おわりに

初期添加時の発泡持続時間は他社と同等であり、ハルセル外観、3価クロムの生成量も問題無い結果が得られた。補給割合については比較液より遥かに少ない値を示した。

その他記事

JCUテクニカルレポート 87号 2010年1月