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低パラジウム濃度触媒PHTプロセス ライザトロンJDS/JPB

新事業推進統括部
戦略マーケティング部
石川 昌巳 Masami ISHIKAWA

はじめに

中国ローカルプリント配線板市場は、2~6層から8~10層クラスまで量産ベースが拡大し技術的難易度は上がるものの、その供給先は比較的安価であるが膨大な需要のある新興国向け低~中級のモバイル製品や電化製品が中心であるため、コスト競争力が生命線となっている。
この度、従来のパラジウム触媒濃度を1/3以下に低減し、かつ浴安定性と信頼性を確保できるデスミア~無電解銅(PTH)プロセスを開発。製品を現地生産化し中国市場へ拡販を開始する。

本プロセスの構成

本プロセスは、デスミア工程と無電解銅めっき工程で構成される。
表1にライザトロンJDS(デスミア工程)を、表2にライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)を示した。





ライザトロン JDS(デスミア工程)
デスミア工程では、膨潤に最も強力なアミン系溶剤を使用している。 本剤を濃厚液として商品化したことにより、容易に任意の濃度を調整でき、あらゆる素材に対応可能である。 ライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)

ライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)

●脱脂コンディショナー JPB-10
本剤は洗浄成分と合わせて樹脂と親和力の優れる化合物を配合している。 この成分の効果により、低パラジウム濃度の触媒であっても、従来プロセスと同等のパラジウム吸着量が得られる。

●キャタライザー JPB-30
JPB-30は、パラジウム~スズコロイド生成の製造工程および 配合成分を新規開発することにより、従来の1/3のパラジウム 濃度である40mg/Lを標準仕様とした。  必ず次工程のアクセラレーターJPB-40と一体で使用する。

●アクセラレーター JPB-40
本剤は、スズを溶解する一般的なアクセラレーターとは異なる原理である。 吸着したパラジウム~スズコロイドを化学的に分解することにより、パラジウムの脱落がなく、 活性度の強い状態のパラジウムを残留させる。キャタライザー後およびアクセラレーター 後のパラジウム吸着量を図1に示した。



●無電解銅めっき JPB-50
JPB-50はシアン非含有EDTA主体の無電解銅めっき浴である。 本剤の最大の特長は、析出速度と浴安定性を両立させた点である。析出速度0.4μm/15分の仕様にて、従来のシアン 含有浴以上の浴安定性を得ている。この特長により管理が容易になり、使い易い浴といえる。

本プロセスはキャタライザー自体のみならず、クリーナー・ コンディショナー、アクセラレーター、無電解銅めっき浴、各々に 新技術を取り入れることにより、低パラジウム濃度にても高い 信頼性を得ることを可能にした。また、今回開発した新技術を ベースとして、ハイエンド品にも適用可能なプロセスの開発検討 を引続き実施していく所存である。

本プロセスは、デスミア工程と無電解銅めっき工程で構成される。
表1にライザトロンJDS(デスミア工程)を、表2にライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)を示した。





ライザトロン JDS(デスミア工程)
デスミア工程では、膨潤に最も強力なアミン系溶剤を使用している。 本剤を濃厚液として商品化したことにより、容易に任意の濃度を調整でき、あらゆる素材に対応可能である。 ライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)

ライザトロン JPB(無電解銅めっき工程)

●脱脂コンディショナー JPB-10
本剤は洗浄成分と合わせて樹脂と親和力の優れる化合物を配合している。 この成分の効果により、低パラジウム濃度の触媒であっても、従来プロセスと同等のパラジウム吸着量が得られる。

●キャタライザー JPB-30
JPB-30は、パラジウム~スズコロイド生成の製造工程および 配合成分を新規開発することにより、従来の1/3のパラジウム 濃度である40mg/Lを標準仕様とした。  必ず次工程のアクセラレーターJPB-40と一体で使用する。

●アクセラレーター JPB-40
本剤は、スズを溶解する一般的なアクセラレーターとは異なる原理である。 吸着したパラジウム~スズコロイドを化学的に分解することにより、パラジウムの脱落がなく、 活性度の強い状態のパラジウムを残留させる。キャタライザー後およびアクセラレーター 後のパラジウム吸着量を図1に示した。



●無電解銅めっき JPB-50
JPB-50はシアン非含有EDTA主体の無電解銅めっき浴である。 本剤の最大の特長は、析出速度と浴安定性を両立させた点である。析出速度0.4μm/15分の仕様にて、従来のシアン 含有浴以上の浴安定性を得ている。この特長により管理が容易になり、使い易い浴といえる。

本プロセスはキャタライザー自体のみならず、クリーナー・ コンディショナー、アクセラレーター、無電解銅めっき浴、各々に 新技術を取り入れることにより、低パラジウム濃度にても高い 信頼性を得ることを可能にした。また、今回開発した新技術を ベースとして、ハイエンド品にも適用可能なプロセスの開発検討 を引続き実施していく所存である。

おわりに

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JCUテクニカルレポート 87号 2010年1月