〈低Pd濃度管理〉

標準管理濃度Pd 15mg/L

〈触媒吸着促進剤 (ENILEX CT-EH) の併用〉

当社独自の触媒吸着促進剤を使用。安定しためっき析出性の確保、低Pd濃度化に大きく寄与。

〈優れた不純物耐性〉

不純物蓄積時においても、従来プロセス新規建浴液同等以上の性能を維持。

図1に、キャタライザー浴中へのENILEX CT-EH添加の有無による処理基材(ABS樹脂およびPC/ABS樹脂)に対する化学Niめっき析出量を示す。ENILEX CT-EHの添加により、化学Niめっき析出性向上の効果が認められる。

図1　CT-EH添加による化学Niめっき析出量の変化

＜化学Niめっき析出性＞

図2に、従来プロセスおよびCT-806プロセス処理時(いずれも浴中Pd濃度15mg/L)のABS樹脂に対する化学Niめっきの析出状態を示す。CT-806プロセスは従来プロセスと比較し、圧倒的に反応性が優れる。

図2　化学Niめっき析出状態(30秒処理時)

＜PC/ABS樹脂に対する化学Niめっき析出性＞

図3に、従来プロセス(Pd 25mg/L)およびCT-806プロセス(Pd 15mg/L)処理時の各種PC/ABS樹脂に対する化学Niめっき析出量を示す。CT-806プロセスは、いずれの樹脂に対しても従来プロセスより優れた化学Niめっき析出性が得られる。

図3　PC/ABS樹脂に対する化学Ni析出量

＜Cr不純物混入時における化学Niめっき析出量＞

図4に、キャタライザー浴中にCr不純物が混入した際の化学Niめっき析出量の変化を示す。CT-806プロセス(Pd 15mg/L)はCr 300mg/L混入時においても、従来プロセス(Pd 25mg/L)新規建浴液以上の性能を有する。

図4　Cr不純物混入時における化学Ni析出量変化