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AUTO PRO シリーズは、さまざまな需要を視野に入れて開発した装置です。半完成品(ユニット)をロット生産し、ユーザー仕様に応じた機能を付加して完成品として仕上げます。そのため標準装備範囲内のシステム構成であれば、どのような機種でも短納期で製作可能です。また、ユニット化された様々なオプションも用意しており、お客様に必要な機能を細かく選択できるように致しております。
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| 正確/安定 |
| ・ |
高速大容量CPUの採用で高い分析精度安定性が得られます(平均誤差±3%) |
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| 高速分析 |
| ・ |
高速高トルク定量ポンプにより、分析時間が短縮できます
(無電解銅めっき浴のアルカリ・銅・ホルマリン・pH4成分を最短15分で分析可能) |
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| 操作が容易 |
| ・ |
操作がとても簡単で取扱説明書なしでも操作が容易に操作できます |
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| 保守が容易 |
| ・ |
前面で全てメンテナンスができるような機器の配置設計しております |
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| 海外対応 |
| ・ |
世界の主要都市における電圧問題も専用トランスで対応可能です |
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| 拡張性 |
| ・ |
本装置で発生する濃度信号は他の機器の制御信号としても使用可能です |

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・ |
1台で基本組成を最大4組成分析が可能です。 |
| ・ |
各分析項目に対し4つの外部信号が出力できます。
[上上限/上限/下限(補給)/下下限] |
| ・ |
補給方法をマルチに設定することができます。
[タイマー制御、パルス制御の選択可能で比例補給比例積算補給も選択可能] |
| ・ |
サンプルは槽から直接採取します。 |
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AUTO PRO Cuteシリーズのブロックダイヤグラム |
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AUTO PRO Cuteシリーズの対応可能プロセス液 |
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| 簡易型式 |
酸洗/電解酸洗 |
酸濃度等、遊離酸 |
SA |
酸洗/電解酸洗 |
(1)酸濃度等、遊離酸 |
SH |
脱脂 |
(1)NaOH等、遊離アルカリ |
ZC/A |
ジンケートA |
(1)NaOH (2)Zn2+ |
ZC/B |
ジンケートB |
(1)NaOH (2)H2CO3 (3)Zn2+ |
EL-Cu/PTH |
無電解Cuめっき |
(1)NaOH (2)HCHO (3)Cu2+ (4)pH |
EL-Ni/P |
工業用無電解Niめっき |
(1)pH (2)Ni2+ |
EL-Ni/A |
プラ用無電解Niめっき |
(1)pH (2)Ni2+ |
A-66 |
アクセレレーター |
(1)PC-66H |
MAB |
還元(弱酸) |
(1)MAB-4B(酸) (2)MAB-4B(還元剤) |
N-PC |
中和還元 |
(1)H2SO4 (2)H2O2 (3)Cu2+ |
M-SPS |
マイクロエッチ |
(1)H2SO4 (2)SPS(過硫酸塩) (3)Cu2+ |
PB-300 |
触媒付与 |
(1)Pd2+ (2)Cu2+ |
HS |
はんだめっき |
(1)有機酸 (2)Sn2+ |
Cu/CN |
シアン化銅めっき |
(1)NaOH (2)CN- (3)Cu2+ |
Ag/CN |
シアン化銀めっき |
(1)NaOH (2)CN- |
DG1 |
デスミア脱脂 |
(1)アルカリ度 (2)Cu2+ |
ET1 |
デスミアPIエッチング |
(1)アルカリ度 (2)過マンガン酸 (3)マンガン酸 |
RD1 |
デスミア中和還元 |
(1)pH (2)DS-310(還元剤) |
DG2 |
DPS脱脂 |
(1)アルカリ度 (2)不純物としての銅濃度 |
MC1 |
DPSマイクロエッチ |
(1)過硫酸塩 (2)硫酸 (3)不純物としての銅濃度 |
AC1 |
DPSアクチベータ |
(1)Pd2+ (2)Sn2+ (3)不純物としての銅濃度 |
MT1 |
DPSメタライザー |
(1)pH (2)アルカリ度 (3)銅濃度 |
SB1 |
DPSスタビライザー |
(1)酸濃度 (2)不純物としての銅濃度 |
注:導入する場合は、事前に実際のプロセス液による分析確認が必要です。簡易型式名は変更することがあります。

最大5台の補給ポンプが取り付け可能になります。
※その他、上表に記載のないめっきプロセスや分析項目についても検討いたします。お問い合わせください。


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・ |
1台で基本組成を最大2組成の分析が可能です。 |
| ・ |
各分析項目に対し1つの外部信号が出力できます。
[下限(補給)] |
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オプションで補給をさせることができます。
[タイマー制御で一定量補給] |
| ・ |
サンプルは槽から直接採取します。 |
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AUTO PRO Lightシリーズのフローシート |
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AUTO PRO Lightシリーズの対応可能プロセス液 |
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簡易型式 |
対応プロセス |
分析項目 |
LPH |
無電解Niめっき浴などのpH管理が必要な槽 |
pHの連続測定 |
LNI |
無電解Niめっき浴のNiの管理 |
Niの連続測定 |
LSA |
前処理浴・エッチング浴・
プリント基板ドライフィルム浴の組成管理 |
中和滴定での酸濃度・アルカリ濃度 |
LCU |
ソフトエッチ・無電解銅めっき浴などの銅濃度管理 |
銅 |
LHC |
無電解銅めっき浴などのホルマリン濃度管理 |
ホルマリン |
LH2 |
エッチング浴などの過酸化水素の濃度管理 |
過酸化水素水 |
LME |
ジンケート亜鉛めっき浴や中和浴の不純物金属等
の濃度管理 |
金属成分 |
LZC |
ジンケート亜鉛めっき浴の濃度管理 |
(1)NaOH (2)Zn2+ |
※簡易型式名は変更することがあります。
※この他にも随時分析項目は増えることがあります。 |
注:導入する場合は、事前に実際のプロセス液による分析確認が必要です。

オプションで最大2台の補給ポンプが取り付け可能になります。
※その他、上表に記載のないめっきプロセスや分析項目についても検討いたします。
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