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> 半導体ウエハ対応めっき処理薬品:ウエハー用硫酸銅平坦形状バンプめっきプロセス
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「CU-BRITE BUU」
特長
1.
CU-BRITE BUUは極めて平坦な柱状バンプめっき形成能力を持ち、バンプ高さの均一性に優れています。
2.
純度が高く、抵抗値の低い、優れた物性の光沢銅めっきが得られます。
3.
ウエハー再配線めっきにも対応が可能です。
4.
必要に応じて浴中の添加剤の濃度分析が可能であり、浴管理が適切に行なえます。
5.
高電流密度に対応しており、バンプ形成のパフォーマンスに優れています。
表面平坦化のメカニズム